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臭氧水处理系统pap-sc-3000pap-sc-3000
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pap-sc-3000
用于水处理和水消毒的氧化系统
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特别是在半导体加工中，需要完全清洁的臭氧系统。在处理过程中从臭氧系统发射到半导体表面的任何金属和颗粒（wafer/imic/rca/som等）都会影响芯片的质量。包括其组件——例如臭氧发生器com-ad或臭氧监测器wm——在内，anseros的pap-sc系统完全不含与臭氧接触的金属。无论是否有酸，它们都可以进行清洁的湿法和干法加工。为了确保安全，pap-sc系统包括一个cat-ho臭氧破坏器。
去离子水流量：100 - 4000 l/h
o3：1 - 100 ppmw
与臭氧接触的材料：pfa、石英
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